光學微電子凈化工程亦名無塵室或清凈室，目前已是半導體、精密制造、液晶制造、光學制造、線路板制造和生物化學、醫藥、食品制造等行業不可或缺的重要設施。近幾年來，由于技術之創新發展，對于產品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發展上極為重視的項目，而我公司的設計理念及施工技術在行業中則處于領先地位。

光學微電子凈化工程一般包括：

1、 潔凈生產區

2、 潔凈輔助間（包括人員凈化用房、物料凈化用室和部分生活用室等）

3、 管理區（包括辦公、值班、管理和休息等）

4、 設備區（包括凈化空調系統應用、電氣用房、高純水和高純氣用房、冷熱設備用房）

光學微電子凈化工程凈化原理

氣流→初效凈化→空調→中效凈化→風機送風→管道→高效凈化風口→吹入房間→帶走塵埃細菌

等顆粒 → 回風百葉窗→初效凈化 重復以上過程，即可達到凈化目的。

光學微電子凈化工程凈化參數

換氣次數：100000級≥15次；10000級≥20次；1000≥30次。壓差：主車間對相鄰房間≥5Pa

平均風速：10級、100級0.3－0.5m/s；溫度 冬季＞16℃；夏季 ＜26℃；波動±2℃。

溫度45－65％；GMP粉劑車間濕度在50％左右為宜；電子車間濕度略高以免產生靜電。

噪聲≤65dB（A）；新風補充量是總送風量的10％－30％；照度300LX。